MIS

Die drei Buchstaben „MIS“ besitzen innerhalb der Elektronik eine ganz eigene Bedeutung. Es handelt sich bei MIS um eine Abkürzung für die bekannte Metall-Isolator-Halbleiter-Struktur. Im englischen wird diese Struktur als metal insulator semiconductor tituliert. Die MIS stellt quasi die Grundlage für zahlreiche Bauelemente der Elektronik dar. Transistoren, Dioden, Sensoren und Prozessoren werden in ihrem physikalischen Aufbau oft mit der Metall-Isolator-Halbleiter-Struktur ausgestattet.

 

Eigentlich ist der Aufbau der MIS-Struktur recht simpel. Es gibt einen Träger und eine sich oben befindliche Schicht aus Metall. Bei der Metall-Isolator-Halbleiter-Struktur stellt überwiegend das Element Silizium den Träger dar. Es sollte für die elektrischen Anwendungszwecke in möglichst reiner Form verbaut werden. Durch eine dünne Isolatorschicht ist das Metall von dem Silizium getrennt. Technisch gesehen handelt es sich bei einer derartigen Konstruktion um einen Kondensator.

Als Isolatoren werden heute meistens Siliziumnitrid und Siliziumoxid eingesetzt.

 


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