Metal insulator semiconductor

Viele Bauteile in der Elektrotechnik- und Elektronik besitzen eine individuelle Struktur. Mit dieser Struktur meint man vor allem den Aufbau eines Halbleiterbauelements. Eine der wichtigsten und verbreitetesten Strukturen ist die Metall-Isolator-Halbleiter-Struktur. Sie wird auf internationaler Ebene auch als „metal insulator semiconductor“ oder verkürzt MIS bezeichnet. Sie ist die Grundlage für viele Transistoren, Dioden, Sensoren und Mikroprozessoren. Wie setzt sich die Metall-Isolator-Halbleiter-Struktur eigentlich zusammen und welche technischen Materialien werden als Isolatoren verwendet?

 

Die Struktur setzt sich aus einem Träger sowie einer sich darüber befindlichen Metallschicht zusammen. Meist handelt es sich beim eingesetzten Träger um das chemische Element Silizium. Es sollte in möglichst reiner Form vorliegen. Das Metall und das Silizium sind beim metal insulator semiconductor durch eine Isolierschicht voneinander getrennt. Das so entstehende Gebilde kann als eine Art Kondensator betrachtet werden. Die vorherrschenden Isolatoren beim metal insulator semiconductor sind Siliziumdioxid und Siliziumnitrid.

 


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