Metall-Isolator-Halbleiter-Feldeffekttransistoren

In der Halbleiterelektronik existieren eine Reihe sehr interessanter Bauelemente. Zu diesen speziellen Bauteilen gehören auch die Metall-Isolator-Halbleiter-Feldeffekttransistoren. Diese Transistoren verdanken ihren Namen der für sie typischen Metall-Isolator-Halbleiter Struktur, kurz „MIS-Struktur“. Diese Halbleiter-Struktur bildet die Grundlage für viele Elemente in der modernen Elektronik. Neben den Metall-Isolator-Halbleiter-Feldeffekttransistoren, kurz MISFETs, nutzen auch heutige CCD-Sensoren oder Mikroprozessoren einen derartigen Halbleiteraufbau.

Doch woraus besteht die MIS-Struktur eigentlich? Einfach gesagt setzt sich die Struktur aus einem Träger und einer darüber installierten Schicht aus Metall zusammen. Als Träger wird in den meisten Fällen, wie auch bei den Metall-Isolator-Halbleiter-Feldeffekttransistoren, reines Silizium eingesetzt. Zwischen dem Metall und dem Silizium befindet sich eine isolierende Schicht. Technisch betrachtet handelt es sich bei einem derartigen Aufbau um eine Art Kondensator. In Fachkreisen nennt man die dünne Isolatorschicht von Kondensatoren auch Dielektrikum.

  Metall-Isolator-Halbleiter-Feldeffekttransistoren spielen in vielen elektrotechnischen- und elektronischen Anwendungen eine herausragende Rolle und werden problemorientiert verbaut.  
 

 


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